工艺过程装备

磁控溅射箱式真空镀膜机
适用行业:光学元件、材料、半导体、装饰、教学科研等。
◆ 全自动一键式操作,全无油真空系统。
◆ 既能满足科研院所多品种、小批量产品研制的需求,又能适用于规模化生产。
◆ 以您的镀膜工艺出发,理论计算和设计经验结合,合理的配置,合理的布局。

性能指标

主要技术指标:

内腔直径(mm):300、400、450、550、650、750、定制

真空抽率:从大气状态到4×10-3Pa,需要时间≤15min 

镀膜室(清洁、空载)极限压力:≤2×10-4 Pa;

保真空(达到极限压力,关闭高阀,1小时):≤ 9×10-2 Pa

膜厚均匀性:≤±2%;

镀膜重复性:≤±2%;


控制程序:

全自动一键式操作,保证镀膜重复性。

全自动程序有可编程模式和固定模式两种可供您选择。

程序设有三级权限,便于管理及维护。

所有数据实时记录,可还原成历史曲线,便于追溯和排查。

关键部件根据实际使用情况,有维护时间显示,即节约成本,又便于维护。


你可能会感兴趣…

仅需15秒

即可轻松获取该产品报价

我们将严格保护您的隐私,并请保持联系方式畅通…

您已成功提交!

您已成功提交! 公司将有专人为您提供产品报价,请保持通讯畅通!

中国真空领域具有核心竞争力的高技术企业

真空阀企业邮箱
真空阀OA系统

Copyright © cdzkws.com All Rights Reserved.

成都中科唯实仪器有限责任公司 版权所有

蜀ICP备11004974号

网站建设观道沟通

真空阀
中科唯实官方微信