JCP型高真空多靶磁控溅射系统 - 工艺过程装备 - 成都中科唯实仪器有限责任公司



创新·诚信·高效

始建于1959年





产品分类

JCP型高真空多靶磁控溅射系统

小型磁控溅射系统以客户镀膜工艺出发，理论计算和设计经验结合，合理的配置，合理的布局，通过共焦超高真空阴极，制备各类金属及其合金、非金属单层膜、多层膜和掺杂膜系，广泛应用于半导体、微电子、材料等相关领域。

模块设计，结构紧凑易于扩展；实时监测，运行数据在线显示；自动化高，一键启动；灵活度高，工艺配方自由设置；功能性强，支持多种薄膜制备；稳定性好，成膜高效质量可靠。

我有此产品需求 索取报价



即可轻松获取该产品报价

我们将严格保护您的隐私，并请保持联系方式畅通…



您已成功提交！公司将有专人为您提供产品报价，请保持通讯畅通！

中国真空领域具有核心竞争力的高技术企业

友情链接

中科唯实官方微信